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重庆集成电路关键设备通过验收

“九五”重大科技攻关项目，高压清洗总投资近1.3亿元的14种18台集成电路研发关键设备，日前在重庆通过信息产业部主持的设计定型鉴定和项目验收，并正式落户中国电子科技集团公司第24研究密封设备所。这个项目是国家针对6英寸0.5微米模拟集成研发和国内关键专用设备发展战略需要下达的。

该工程主要包括分厨房步投影光刻机、冲洗甩干机、大束流离子注入机、电按启动键开始工作子束曝光机、低压化学气相淀积系统、四管氧化扩散系统、金属反应离子刻蚀机、介石墨质干法刻蚀机、金属层间介质化学气相淀积系统、磁射溅射系统、硅片处理系统、硅片腐蚀清洗系统、电子回旋共振化学气相淀积系统、石英管清洗机等，分别由中电科技集1、弹簧实验机分类团第45研究所、第48研究所，国营700厂、中巴两大发展中国家将签署1份关于铁路合作的体谅备忘录708厂、709厂，以及西安电子科技大学等单位研制。

该工程专用设备的研制成功，在一定程度上扭转了我国存在的半导体工艺设备制造水平低、可靠性差、主要依靠进口的被动局面，将我国核心半导体工艺设备的制造水平提前了5年－8年，为缩小我国同世界先进国家半导体工艺设备制造水平的差距做出了突出贡献。